应用材料公司的AKT-PX系列PECVD设备，在面积从1.6到5.7平方米（5代线至8.5代线）的玻璃基板上，沉积高度均匀的低温多晶硅(LTPS)薄膜。LTPS技术是一种已经得到验证的方法，在主动矩阵有机发光二极管(AMOLED)和超高分辨率薄膜晶体管液晶显示面板(TFT...
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作为一种全自动化的立式直列溅射系统，NEW ARISTO具备业界最高的产能。自动化的装卸料能力加上我们获得专利的磁性输送系统，可显著缩短处理周期。先进的旋转阴极技术使NEW ARISTO成为经过市场检验的创新量产解决方案。模块门概念简化系统升级，从而提高投资保障。NEW...
AKT-PECVD设备为非硅晶(a-Si)和金属氧化物(MOx)背板技术提供工艺，可使用的薄膜包括掺杂及未掺杂非晶硅(a-Si)、氧化硅(SiOx)、氮氧化硅(SiON)、氮化硅(SiN)，并且实现一次多层沉积镀膜。
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AKT-PiVot 55K DT PVD和25K DT PVD设备能在2200毫米x 2500毫米和1500毫米x 1850毫米玻璃基板上沉积薄膜晶体管的关键膜层和金属相连，支持各种大尺寸电视机或移动设备节能型面板的生产制造。AKT-PiVot卓越的均匀性、...
应用材料公司新的AKT 55KS等离子体增强化学气相镀膜设备(PECVD)把在市场上处于领先地位的精密PECVD技术引入2200毫米 x 2500毫米尺寸基板。该系统使用一种新的高质量二氧化硅(SiO2)工艺，为金属氧化物(MO)晶体管沉积一层电介质层界面，...
最先进的电容触控面板有多种二氧化硅(SiO2)氧化铟锡(ITO)金属，以及沉积在一块玻璃基板的一面或两面的合金薄膜（如图所示）。Aristo双轨设备的平行架构，使单台Aristo双轨设备能够沉积电容触控面板制造工艺流程所要求的全部PVD膜层。
目前用于显示面板缺陷检验的在线自动化光学缺陷检测工具，在区分致命与非致命缺陷或分析缺陷系统性根本原因方面，不及扫描电子显微镜(SEM)有效。在使用应用材料公司的电子束检视(EBR)设备之前，对显示面板进行SEM分析要打碎玻璃基板，然后在显微镜下单独检视每一块碎片。...
AKT EBT TFT阵列测试设备以最小的机械运动，实现高可靠性、较短的计划停机时间和低运行成本。电子束阵列测试设备的特征在于，通过几个平行的电子束迅速地进行大面积定位检测，从而实现快速测试。终极的电子束微小尺寸与精确定位使超高分辨率测试成为可能，...
等离子体增强化学气相镀膜(PECVD-TFE)设备Enflexor™ Gen 6H PECVD沉积卓越的阻隔膜层，实现可挠式OLED面板技术。Enflexor Gen6H提供一系列的缓冲膜层及网格技术，具备用于全方位一体化系统处理能力的网格自动交换，...
