Nokota 시스템은 다양한 패키징 방식에 사용되는 전 범위의 플레이팅 공정에 대하여 동급 최강의 성능을 제공하는 고생산성 웨이퍼 레벨 패키징 툴로서 어플라이드 머티어리얼즈의 전기화학 증착 제품군을 확장합니다. 이 제품군은 플립 칩 및 웨이퍼...
View product detail
결함 검사, 분류, 분석은 반도체의 각 제조 단계에서 품질을 감시하고 통제하는 수단으로서 반도체 제조에 있어 매우 중요합니다. 패턴이 미세화되고 반도체 소자의 복잡도가 높아짐에 따라 그 크기가 작아지고 3D 구조내 위치를 확인하기 힘든 임계...
집적 회로와 구성품이 계속해서 미세화되면서 구성품간의 금속 인터커넥트와 컨택도 작아지고 있습니다. 그에 따라 이러한 인터커넥트의 저항이 커지고 있습니다. 더 작고 빠른 전자 기기를 구현하려면 추가적인 미세화가 가능하도록 저항을 최소한으로...
어플라이드 Aera4 마스크 검사 시스템은 트루 에어리얼 이미징과 최첨단 고해상도 이미징을 차별화된 방식으로 결합한 4세대 193nm 기반 검사 장비입니다.
새로운 리소그래피급 렌즈가 탑재된 Aera4 시스템은 표준 고행사도...
어플라이드 Aeris™-G 시스템은 프리 펌프 플라즈마 방식의 저감 솔루션으로 실제 공정 가스량을 처리해서 더 적은 에너지를 소비하기 때문에 포스트 펌프 방식의 저감 장치에서 처리되는 것보다 더 낮고 더 농축된 가스량을 사용합니다. 저감 과정...
Ginestra™ is a software product designed to simulate the operation and electrical characteristics of modern logic (e.g., FinFET, FeFET)...
Achieving world class photomask CD uniformity begins with the quality of resist coating. At the nanometer scale many subtle factors...
Cleaning methods for photomasks used in 193i and EUV lithography are driven by sensitive mask materials and the environments in which...
The use of chemically amplified resists for photomask manufacturing requires tight control of the post exposure bake (PEB) step, which...
Accurate development of the exposed resist pattern is essential to preserving the inherent CD uniformity of a photomask that has gone...
반도체가 계속해서 미세화되면서 칩 제조의 정확성과 균일성에 대한 요구가 점점 더 높아짐에 따라 지난 10년 동안 실리콘 식각 챔버가 완전히 새롭게 재설계되었습니다. 그에 따라 나온 어플라이드의 Centris Sym3 시스템은 세계적인 수준의...
혁신적인 어플라이드 Centris 플랫폼은 최대 8개의 공정 챔버, 구체적으로는 6개의 식각 챔버와 2개의 플라즈마 클린 챔버로 구성할 수 있습니다. 고속 이송 로봇으로 경쟁 시스템에 비해 거의 2배나 빠른 시간당 최대 180개의 웨이퍼 처리...
CMOS 기술에는 PMOS와 NMOS의 두 가지 유형의 트랜지스터가 필요합니다. PMOS의 경우 채널을 압축해서(격자 간격을 줄여), 즉 세로 방향의 간격을 줄여 원자 결합을 더 강하게 하면 홀 모빌리티가 향상되어 좋은...
어플라이드 Avatar 시스템은 각각의 식각 시퀀스의 정확한 온도 설정과 안정성을 보장하기 위해 단계별 온도 조절 및 제어 능력을 3중 주파수 전력 및 다중 구역 가스 주입 기능과 결합하여 우수한 윤곽 제어 능력과 함께 아주 깊은...
DPN HD 질화 공정에서, SiO2 유전체에 저에너지 펄스 플라즈마를 통해 질소를 주입하면 게이트 스택의 SiON과 Poly Si의 계면은 높은 질소 농도를, Si 기판과 SiON계면에는 낮은 질소 농도를 유지하여 채널 모빌리티를 향상시킵니다...
각 기술 노드의 원하는 소자 성능을 얻기 위해 점점 작아지는 EOT에 맞추어 게이트 스택의 두께를 줄여야 합니다. 22nm 이하로 가면서 초박막 고 유전율 필름을 만들기 위해 ALD 공정이 필요합니다. EOT를 줄이기 위해 플라즈마 질화를...
체적 대비 기능 비율을 최대화하기 위해 소자 업체들은 3D 구조를 사용해 칩을 집적화하고 있습니다.TSV 기술은 적층된 칩이나 웨이퍼를 연결하는 집적 회로의 부품의 역할을 하는 수직 통로를 만들어 3D 인터커넥트를 구현합니다.
...
EUV 포토마스크는 웨이퍼에 회로패턴을 투사하기 위해 193nm 파장의 빛을 선별적으로 보내는 기존의 포토마스크와는 근본적으로 다릅니다. EUV 리소그래피가 사용하는 13.5nm 파장에서 모든 포토마스크 물질은 불투명하기 때문에 마스크에는 회로...
Applied Centura Tetra Z Photomask Etch 시스템은 10nm 이상의 로직 및 메모리 소자를 위한 광학 리소그래피 포토마스크를 식각하는 데 필요한 첨단 기능을 제공합니다. 이 새로운 시스템은 첨단 해상도 증강 기술을...
Applied Centura Ultima X HDP‑CVD 챔버의 반응기 설계와 공정 기술을 통해 STI, 전금속 유전체, ILD, IMD, 페시베이션 등의 다양한 응용 분야에 대해 무도핑 필름과 도핑 필름을 모두 증착할 수 있습니다.
낮은 저항과 최소한의 일렉트로마이그레이션을 특징으로 하는 텅스텐은 로직 및 메모리 소자에서 트랜지스터를 집적 회로의 나머지 부분과 연결하는 컨택과 중간 라인(최저 레벨) 인터커넥트를 충진하기 위한 재료로 오랫동안 사용되어 왔습니다. 이전의...
이 시스템은 보이드(void)가 없고 CMP 호환이 가능한 텅스텐 플러그를 구현하기 위해 혁신적인 ALD 텅스텐 핵생성층 기술과 고처리율(high-throughput)의 Sprint CVD 텅스텐 벌크필(bulk fill) 공정을 결합한...
첨단 챔버 재료가 “클린 모드” 운영을 가능하게 하여 소유 비용을 줄이고 생산성을 높입니다. 또한 첫 번째 웨이퍼 현상이 제거되어 실제 생산에서도 입증되었듯이 웨이퍼간 공정의 재현성이 보장됩니다.
AdvantEdge Mesa 는...
어플라이드 Charger UBM PVD 시스템은 금속 증착 생산성과 칩 패키징 신뢰도의 새로운 기준을 제시합니다. UBM, 재배선층(RDL), CMOS 이미지 센서 응용분야를 위해 특별히 설계된 Charger 시스템의 새로운 선형구조는 경쟁사...
