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Producer® CVD

첨단 150mm/200mm CVD 기술은 MEMS, 전력 소자 등의 “모어 댄 무어” (More-than-Moore) 시장 영역에 필요한 기술입니다. 이 같은 기술의 예로는 초후막 필름(≥20µm), 저온 공정(180°~350°C), 고도의 정합 필름, 저온 PECVD 실리콘 게르마늄(SiGe), 비결정성 실리콘(a-Si) 등의 신소재 기술을 들 수 있습니다.

어플라이드 Producer 플랫폼은 전 세계로 수천 대 시스템이 판매되었으며 업계에서 비용 효과가 가장 우수한 웨이퍼 공정 제품입니다. Producer 플랫폼의 혁신적인 트윈 챔버 구조는 최대 6개 웨이퍼를 동시에 처리할 수 있어 더욱 뛰어난 생산성을 구현합니다. 또한 loadlock 웨이퍼 매핑부터 재현성 있는 웨이퍼 방향 초기화, 웨이퍼 배치에 이르기까지 SiC 웨이퍼를 안정적이고 세심하게 취급할 수 있는 향상된 기능을 지원합니다. 어플라이드 Producer 플랫폼은 최대 110wph(3000Å PE TEOS 및 플라즈마 실란)의 TEOS 및 SiC 처리량, 그리고 65wph(2000Å SACVD USG)의 USG 처리량을 제공합니다. 세라믹 히터 및 챔버 컴포넌트, 챔버 클린용 원격 플라스마 소스를 통해 CVD 필름에 최저 결함률을 보입니다.

Producer플랫폼은 기존 PECVD(TEOS 및 실란 기반 산화물 및 질화물), 부기압 CVD 필름 외에도 low-k, 변형 공학, 리소 공정 구현 필름, 열 필름, 고온 PECVD 애플리케이션, SiGe, a-Si 등에도 적합합니다. 플랫폼 확장성을 통해 고객은 다양한 소자 유형 및 공정 노드에 Producer 툴셋을 활용할 수 있습니다.

Producer 시스템은 전통적인 PECVD(TEOS 및 실란 기반의 산화물과 질화물)와 대기압 미만 CVD 필름을 지원할 뿐만 아니라 저 유전율, 신축 변형 가공, 리소그래피 구현 필름, 열 필름, 고온 PECVD 응용 분야, SiGe와 비정질 실리콘을 포함한 첨단 공정도 지원합니다.

세라믹 히터와 챔버 구성품 그리고 챔버 세정을 위한 원격 플라즈마 소스를 사용하는 어플라이드 Producer는 CVD 필름을 위한 결함률 최저의 성능을 구현합니다. 플랫폼 확장성을 제공하기 때문에 Producer 장비 세트를 여러 가지 유형의 소자와 공정 노드에 활용할 수 있습니다.