skip to main content
Productsort descending 技術 屈折率 プラットフォーム
Aera4™ マスク検査装置 フォトマスク, 計測 & 検査 パターニング Aera™
Applied® Sigmameltec® CTS Mask Coat Series フォトマスク パターニング
Applied® Sigmameltec® MRC Mask Clean Series フォトマスク パターニング
Applied® Sigmameltec® SFB Mask Bake Series フォトマスク パターニング
Applied® Sigmameltec® SFD Mask Develop Series フォトマスク パターニング
Centris® AdvantEdge™ Mesa™ Etch エッチング トランジスタ, パターニング, メモリ, 配線 Centris™
Centris® Sym3™ Etch エッチング パターニング, 配線 Centris™
Centura® Advantedge™ Mesa™ エッチング装置 エッチング トランジスタ, パターニング, メモリ, 配線 Centura®
Centura® Tetra™ EUV Advanced Reticle Etch エッチング, フォトマスク パターニング Centura®
Centura® Tetra™ Z Photomask Etch エッチング, フォトマスク パターニング Centura®
Endura® Cirrus™ HTX PVD PVD パターニング, 配線 Endura®
Producer® APF™ PECVD CVD パターニング Producer®
Producer® DARC® PECVD CVD パターニング Producer®
Producer® Selectra™ Etch エッチング パターニング Producer®
PROVision™ eBeam Inspection 計測 & 検査 パターニング
SEMVision™ G7 欠陥解析 計測 & 検査 パターニング
VeritySEM® 5i Metrology 計測 & 検査 パターニング, 配線 VeritySEM™