加速度計やジャイロスコープ、マイクロフォンといった、MEMSデバイスの採用拡大が、携帯機器、車載、医療デバイスマーケットの変革に大きく貢献しています。複数の機能を備えた”コンボ”センサパッケージは、小さなMEMSのデバイスフットプリントで同様の形状において、さらに多くの機能を搭載することができ、MEMSの採用を加速しています。これらのコンボデバイスを可能にするためには、新材料とデバイスの統合スキームが必要です。これらは、消費電力を低減するための厚いエピの成膜とエッチングを含みます...
これらの膜は、Centura DxZ CVD装置で製造可能な幅広い製品群に含まれています。アプライド マテリアルズの絶縁CVD膜における強みの基礎は、TEOS、シランベースの酸化膜、窒化膜から始まり、先進のチップ製造プロセス、Low-k、歪みエンジニアリング、...
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アプライド マテリアルズの特許取得済みHDP-CVDリアクターデザインとプロセステクノロジーは、STI、プリメタル絶縁膜、ILD、IMD、パッシベーションなどの幅広いアプリケーションにおいて、ドープおよび非ドープ膜の成膜を可能にします。
Applied Centura Epi装置は、世界中で約900台の200mmチャンバで採用されている、製造現場で実績のある枚葉式マルチチャンバ・エピタキシャル・シリコン成膜装置です。放射加熱された各チャンバは、正確かつ再現性のある成膜条件の制御を提供し、100％滑らない膜...
Applied Centura Etch Reactorsの新しい200mmテクノロジーは、MEMSの100：1以上のアスペクト比、SJ MOSFET向けのオール・イン・ワン・ハードマスクのオープントレンチストリップ、LEDやパワーデバイス向けのITO、GaNといった、...
MEMSやCMOSイメージセンサといった新興のアプリケーション、Si貫通電極（TSV）のようなパッケージングテクノロジーが、窒化アルミニウム（AIN）、酸化インジウム錫（ITO）、酸化アルミニウム（Al2O3）、ゲルマニウム（Ge）といった、PVDの開発を牽引しています...
150mmおよび200mm向けにも対応可能な統合されたポストCMP Mesaクリーナーはまた、効果的にスラリーを除去し、残留物の蓄積を防ぎ、パーティクルやウェーハのウォーターマークを最小限に抑えます。銅ダマシンアプリケーション向けには、高速かつ効率的、...
全世界で3000台以上の出荷実績を誇る、Applied Producerは、業界で最もコスト効率の高いウェーハ処理プラットフォームです。同プラットフォームの革新的なTwin Chamber構造により、最大6枚のウェーハの同時処理が可能で、生産性が向上します。
