應用材料的 ATON PVD系統

應用材料ATON為一具技術創新的物理氣相沉積（PVD）系統，用於在矽基晶片上沉積無矽烷的氮化矽防反射/鈍化層。ATON系統不僅具有卓越的鍍膜均匀性和高量產率，並能夠具有以低成本提供高品質生產力。它的模組化設計與適應不同基板尺寸的能力將可提供客戶更多的生產靈活性。

先進的可旋轉靶材設計將更換和清洗間隔從10天延長到了20天或更長，設備系統可正常操作時間因此提升到超過93%。和平面靶材技術相比，此這個嶄新設計可將靶材材料利用率提高到原來的三倍多，可達75%以上，延長了靶材壽命並降低了操作營運成本。

每一個ATON設備系統可以提供超過100MW（兆瓦）的年生產量，在靶材設計壽命內可以展現世界級的鍍膜均勻性(+/- 2.5%)。並可藉製程參數獨立控制薄膜折射率(RI)和氫含量，以使得日常量產中可以簡單地控制電池轉換效率。總之，ATON技術可為晶體矽太陽能電池製造商提供了足以媲美化學氣相沉積(CVD)技術的電池轉換效率，並使擁有成本能降低達40%。