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Vantage® Vulcan™ RTP

32/28 奈米以下節點尖峰式退火的主要挑戰在於如何降低晶片中由於輻射能量吸收變動造成的溫差。此現象稱為圖案負載效應 (PLE)。Vulcan 系統「將技術反轉」,在晶圓下方使用加熱燈,降低圖案負載效應,達到優異的加熱均勻度。

Sundar Ramamurthy 博士介紹 Vantage Vulcan 快速升溫製程系統

除了优异的温度均匀性,该系统还提供从超低温到超高温(150°C-1300°C)的大工艺范围。因此,它结合了其前身VantageRadiance®PlusRTP系统的先进尖峰功能,具有多功能性,可用于附加步骤,如次秒钟退火,超低温退火和各种金属退火。其“快速尖峰”淬火通过消除可能对快速性能,低功耗器件制造造成不利影响的尖峰退火中的长时间冷却时间来提高器件性能。

Vulcan 系統是首款燈式快速升溫製程機台,能在接近室溫下提供閉迴路能力,透過低溫製程採用的傳輸基礎多點溫度量測,達到優異的晶圓對晶圓可重複性。介面工程在先進節點製造中變得至關重要。Vulcan 系統的低溫能力能協助客戶將鎳或更先進的材料擴散至矽晶時為介面品質進行最佳化,達到更薄的尺寸、更優良的矽化層並提升良率。

Shankar Muthukrishnan 的「快速升溫製程技術介紹」
13th IEEE International Conference on Advanced Thermal Processing of Semiconductors - RTP 2005**