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Producer® CVD 200mm

為滿足「超越摩爾定律」市場(包括 MEMS、功率元件和封裝)的製造要求,對更多 200mm 先進化學氣相沉積技術的需求也有所增加。更厚的薄膜 (≥20µm)、更低的溫度(180° 至350°C)、更高均勻性以及諸如低溫 PECVD 矽鍺 (SiGe) 和非晶矽 (a-Si) 等新材料,都是開發用於滿足此類市場需求的新 CVD 技術。

應用材料公司的 Producer 系統全球銷量愈 3,000 套,是業內最具成本效益的晶圓加工平台。該平台採用創新的 Twin Chamber 架構,最多可同時處理六個晶圓,達到極佳的生產效率。

Producer 系統支持傳統的 PECVD(TEOS 和基於矽烷的氧化物和氮化物)和次大氣壓 CVD 薄膜沉積,以及一些先進的製程,包括低 k、應變工程、光刻薄膜、熱薄膜、高溫 PECVD 應用、矽鍺和非晶矽。

借助陶瓷加熱器、反應室組件和用於反應室清潔的遠程電漿源,應用材料公司的 Producer 使 CVD 薄膜的缺陷率達到最低。平台具有可擴展性,使客戶能夠將 Producer 工具運用在多種類型元件和製程節點。