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Centura HDP CVD 200mm

應用材料公司的 Centura Ultima HDP-CVD(高密度電漿化學氣相沉積)系統在全球的安裝量超過了 1,000 套,是業界領先的多代主力機型,該系統可以為 200mm 以下的應用提供久經考驗的無縫隙填充解決方案。

應用材料公司獲得過專利的 Ultima HDP-CVD 反應器設計和製程技術可以為多種應用沉積無摻雜 (USG) 和摻雜(PSG 和FSG)薄膜,這些應用包括淺溝隔離層 (STI)、金屬前介電質層 (PMD)、層間介電質層 (ILD)、金屬層間介電質層 (IMD) 以及鈍化保護層。