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Applied® Sigmameltec® SFD Mask Develop Series

對於透過鍍膜、曝露和烘烤這些受到高度控制製程的光罩,將已曝光的光阻圖案進行精確顯影,是保留光罩原有的 CD 均勻度不可缺少的一環。這項製程需要在光罩表面同時並均勻地分配顯影劑。因此採用足夠的流速可以避免顯影劑耗盡,同時也可以在光罩線寬尺寸的全部範圍內實現最佳 CD 線性。為了避免光罩缺陷,必須分離化學步驟,此外還需要防止液滴反彈到光罩表面。

Sigmameltec SFD 系統設計是以將顯影和最終沖洗步驟分開的兩個反應室為主,並且還在反應室之間採用濕式光罩轉移,以避免顯影後沖洗和最終沖洗的步驟之間發生乾燥。精確控制顯影劑溫度和流速可確保光罩到光罩的 CD 平均穩定性。具備光滑壁面和雙高度區域處理的寬腔反應室可防止飛濺至光罩之上,沖洗反應室和平台可以保證清潔一致,並且保證無缺陷光罩的製造。

主要功能和優點:

  • 顯影和最終清洗室採用分離的化學品以避免交叉污染和缺陷產生
  • 濕式反應室內的雙高度區域和光滑反應室設計消除了飛濺問題
  • 寬線性狹縫噴嘴可確保均勻的顯影劑流量,以獲得最佳的 CD 均勻度和平均的 CD 可重複性
  • 採用反饋迴路控制的高流速可最大限度地減少負載效應並使 CD 線性達到最佳化
  • 獨立的沖洗噴嘴可為顯影製程快速淬火,以獲得最佳 CD 控制
  • 濕式機械臂將完整混拌式顯影的光罩轉移,避免過早乾燥並保護光罩線寬
  • 背面噴嘴可同時沖洗整個面罩
  • 自動的反應室和平台沖洗可以保持乾淨的環境,無需操作員工介入