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Applied® Sigmameltec® SFB Mask Bake Series

使用化學放大型光阻進行光罩製造時,必須對曝光後烘烤 (PEB) 步驟進行嚴格控制,這樣便可完成由圖案曝光引發的化學反應。烘烤溫度和時間也會影響最終的圖案尺寸,因此烘烤條件必須保持均勻並可重複,以此確保曝光設備的 CD 均勻性被準確地轉移到光罩上。由於烘烤步驟中的總熱量預算會強烈影響 CD,所以溫度上升和下降分佈的跨板搭配是一個關鍵的因素。

Sigmameltec SFB 系統採用本身具均勻特性的烘烤反應室來解決這些挑戰,這些烘烤反應室具有最佳化的外圍熱區域,並可通過氣體流量進行微調。其結果是在光罩的每個點上都可以達到可重複的熱曝光,這不僅考慮了穩態溫度均勻性,而且還考慮了光罩上溫度 - 時間分佈的一致性。

主要功能和優點:

  • 雙烘烤模組可以提高產能或支持兩種烘烤溫度
  • 封閉的烘烤環境與區域控制,可獲得高度統一的溫度分佈
  • 密切配合的溫度提升和穩態溫度控制,可以在光罩上實現一致的熱預算
  • 烘烤反應室內的多個 N2 流通區域,可對烘烤溫度曲線進行額外的微調
  • 帶有 Peltier 裝置的冷卻板,可用來進行快速且可調控的冷卻
  • 在烘烤和冷卻模組之間迅速轉移,最快速地結束烘烤製程
  • 選用的內嵌安裝光罩寫入器,可實現後曝光延遲的最佳重複性