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Applied® Sigmameltec® MRC Mask Clean Series

193i 和 EUV 微影所用光罩採用敏感光罩材料和環境,因此促成這些光罩採用的清潔方式。光罩清潔製程已經從腐蝕性化學處理方法發展到更溫和的配方與高頻超聲波相結合的技術,以去除更小的微粒並實現更光潔的光罩表面。

Sigmameltec MRC 系統為光罩製造商提供了可以滿足他們需求的整套設備,包括一個電漿反應室,用以輕柔但有效地去除光阻和其他殘留有機物。裝配有濕製程機器臂的兩個清潔室提供分離的化學清潔和關鍵性最終清潔步驟。可用的化學品包括臭氧水,CO2 水,與 TMAH 結合的水解水,硫酸過氧化物混合物和 SC-1。

主要功能和優點:

  • 下游電漿體可有效並且無損地去除有機材料,包括 EUVL 光罩上的碳污染
  • 兩個濕反應室之間的製程隔離,可使清潔效能達到最佳化
  • 具有「聲波刷」效果的高頻超聲波頭,可有效地去除微小顆粒而不影響精密的光罩線寬
  • 採用線性槽式噴嘴並且流量均勻的臭氧水,結合原位紫外線照射,可有效去除有機物質
  • 採用水射流噴嘴的微米級液滴結合化學製劑,可去除頑固的微粒
  • 真空烘烤反應室可進行表面處理和電漿去除
  • 背面超聲波技術支持高產能和全光罩清潔,並無需反轉晶圓
  • 無硫酸鹽和低銨製程,以避免 193i 光罩上形成霧化