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Applied® Sigmameltec® CTS Mask Coat Series

高品質光阻鍍膜是達到世界一流光罩 CD 均勻度的第一步。在奈米尺度上,許多細微因素變得非常重要,其中包括反應室空氣的純度、溫度和濕度,光罩表面的預處理、光阻分配和旋轉塗佈特性,以及塗抹後烘烤 (post apply bake) 輪廓的控制。

Sigmameltec CTS 系統提供可調控的環境,可協助生產具備可重複特性和超低缺陷層級的高品質光阻塗層。光罩基板的預處理可確保表面光潔並具有良好的附著力,連同嚴格控制的光阻分配和旋轉程式,這些確保了 1 奈米 (3s) 尺度的塗膜均勻度。鍍膜反應室配有三個光阻類型的分配臂,並可以選擇更多分配臂。自動化溶劑沖洗可確保鍍膜環境一致的清潔度。

主要功能和優點:

  • 最佳化旋轉反應室設計可確保鍍膜的高度均勻及重複性
  • 多個光阻分配臂可均勻分配先進的光阻材料
  • 塗抹後烘烤 (post apply bake) 和冷板的嚴格溫度控制,確保穩定的光阻性能
  • 高壓超音波反應室使用二氧化碳水清洗去除預鍍膜微塵粒子
  • 172 奈米紫外線處理以增強預鍍膜表面狀態並提高光阻可潤濕性
  • 整合式晶邊光阻去除器可以進行輪廓清晰的精確光阻削薄
  • Class 1 反應室配有受阻胺 (amine) 過濾功能可確保得到高品質鍍膜
  • 自動溶劑沖洗可用於保持清潔無微粒的鍍膜環境
  • 選用的 HMDS 預處理反應室可增強光阻附著力