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應用材料公司PECVD 5.7

  • 高沉積速率(大於500Å/分鐘 微晶矽薄膜) 可以提高生產力;
  • 最佳化的沉積均一性可以提高電池轉換效率;
  • 設備平臺已經在實際生產中得到驗證,具有高正常操作時間(大於90%)和優越的設備可靠性。

應用材料公司PECVD(電漿化學氣相沉積)5.7系統可以在5.7平方公尺的玻璃基板上沉積矽薄膜發電層,製造出全世界最大的薄膜太陽能電池。PECVD 5.7系統源自應用材料公司領先群倫已用於TFT-LCD(薄膜電晶體液晶顯示器)生產的AKT設備系統,它的性能在全球800多台已經安裝的設備上得到了驗證。

應用材料公司PECVD5.7設備系統是一個單基板製程處理系統,擁有7個獨立的反應腔體,圍繞在一個中央傳送模組周圍。它的特色在於能使得非晶矽和微晶矽沉積反應腔都是個別獨立的,可以避免多層矽薄膜電池技術中各吸收層之間的交叉污染。