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Aera4™ 光罩檢測

應用材料公司的 Aera4 光罩檢測系統是以 193 奈米為主的第四代檢測工具;此工具獨特地結合了真實空間影像技術與尖端的高解析度影像技術。

Aera4 系統配備了新的微影級鏡頭,在標準的高解析度應用和空間檢測中展現更佳訊噪比,因而成為 1x 奈米技術節點以及早期生產中的 EUV 光罩檢測的首選工具。該系統的光罩檢測靈敏度極高,可滿足雙重和四重圖案微影製程技術的需求,同時保持極低的誤報率。

Aera4 設計用於模擬光刻掃描器,與其他高解析度的光罩檢測系統相比,在檢測先進光罩 (包括採用反向微影製程等激進光學鄰近效應修正的光罩) 時提供更高的首次檢測成功率。此外,該系統本身能夠自動將缺陷歸類為轉印缺陷或非轉印缺陷,使光罩製造商能夠將 ArF 技術擴展用於新生代節點。

在晶圓製造廠,Aera4 系統可將光罩檢測從早期的霧狀缺陷檢測擴展到完整的 193 奈米曝光退化監測。此外,IntenCD™ 技術可在檢測的同時對整個光罩進行臨界線寬均勻度對應。通過這些功能,系統能夠延長光罩壽命,降低與光罩有關的成本。