アプライド マテリアルズ 原子レベルの製造技術でトランジスタの限界に挑戦

七月 13, 2011

報道資料
2011年7月13日
(日本時間)

アプライド マテリアルズ 原子レベルの製造技術でトランジスタの限界に挑戦

• 22nmノードではトランジスタゲートの核となる絶縁膜スタックの原子レベルでの構築が不可欠
• 課題:クリーンで正確なインターフェース制御で原子レベルの薄膜スタックを形成する
• 解決策:先進的なHigh-k ALD技術を含む複数のプロセスステップをすべて真空下で実行

アプライド マテリアルズ(Applied Materials, Inc., Nasdaq:AMAT、本社:米国カリフォルニア州サンタクララ、会長兼CEOマイケル・スプリンター)は7月12日(現地時間)、22nmロジックチップでクリティカルなゲート絶縁膜構造を形成する装置Applied Centura® Integrated Gate Stack™を投入しました。この装置は、同一の真空環境下でHigh-k積層膜を形成できる唯一の装置で、それによりクリティカルなインターフェースを汚染なく保つことができます。これは、先進的なマイクロプロセッサやグラフィックス用ICのトランジスタ速度を最大限に高め、消費電力を最小に抑える上で不可欠な機能です。

ロジックチップが22nmノード以降へと微細化するにつれて、トランジスタゲート構造の中核をなす絶縁膜スタックもさらに薄くなり、原子レベルの処理が必要となっています。この課題に応えるため、Integrated Gate Stackにはアプライド マテリアルズの先進的な原子層堆積(ALD)技術が用いられ、厚さ2nm(人の毛髪の10万分の1の太さ)未満というきわめて薄いハフニウムベースの層を一度に1原子層の一部分ずつ成長させることが可能で、ウェーハ全面にわたって優れた均一性を確保します。

さらに大事なのは、膜が薄くなるにつれて隣接層とのインターフェースがより重要性を増してくることです。Integrated Gate Stackは、ゲート絶縁膜スタック構造の形成(通常4ステップを要する)をすべて真空下で行います。この独自手法によりインターフェースが周囲の空気に触れることによる汚染を回避できるので、トランジスタ性能の低下をふせぐことができます。アプライド マテリアルズの研究陣は、処理中の空気接触をなくすことでトランジスタの性能が大きく向上することを確認しています。これによると、トランジスタの電子移動度は最大10%改善するほか、トランジスタ間のスイッチ電圧の変動は最大40%低減するので、より高速で価値の高いチップを製造することが可能となります。

アプライド マテリアルズのグループバイスプレジデント兼メタルデポジション/フロントエンド/ALDプロダクト部門ジェネラルマネージャー、スティーブ・ガナイェムは次のように述べています。「ナノスケールトランジスタは今後、わずか原子数個分の薄膜によってその性能が左右されるため、並外れた精密さが求められます。複数の前後するプロセス工程を当社の世界水準のプラットフォームCentura上にインテグレートすることにより、お客様はプロセスフローを簡略化して次世代ロジックチップの歩留まりを高めることができます」

アプライド マテリアルズのエグゼクティブバイスプレジデント兼シリコンシステムズグループ ジェネラルマネージャー、ランディア・タッカーは次のように語っています。「20nm時代へと移行する中で、チップは大幅に複雑さを増していますが、中でもトランジスタレベルでの変化は非常に大きく、電子デバイスの重要な基本要素であるトランジスタの設計が根本的に変化しつつあるからです。お客様はアプライド マテリアルズのMetal Gate Stackが持つ利点に注目し、絶縁膜ゲートスタックの一貫処理に向けて当社と協力しています。今回 投入したCentura Integrated Gate Stackは、アプライド マテリアルズがこの数か月に発表している革新的な装置の一環をなすもので、いずれも最先端の半導体デザインを研究室から量産へ移行させる役割を果たします」

アプライド マテリアルズは7月12日~14日にかけてサンフランシスコで開催されるSemicon Westにおいて、Centura Integrated Gate Stackを紹介する予定です。
詳細については、www.appliedmaterials.com/events/semicon-west-2011をご参照ください。

アプライド マテリアルズ(Nasdaq: AMAT)は、先進的な半導体、フラットパネルディスプレイ、太陽電池の製造に用いられる革新的な装置、サービスおよびソフトウェアを提供するグローバルリーダーです。アプライド マテリアルズのテクノロジーにより、スマートフォン、薄型テレビ、ソーラーパネルなどの製品が世界中の家庭やビジネスで、より手頃な価格でご利用いただけるようになります。アプライド マテリアルズは、今日のイノベーションを明日の産業へ発展させていきます。

詳しい情報はホームページ:http://www.appliedmaterials.com でもご覧いただけます。

 
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このリリースは7月12日米国においてアプライド マテリアルズが行った英文プレスリリースをアプライド  マテリアルズ ジャパン株式会社が翻訳の上、発表するものです。

アプライド マテリアルズ ジャパン株式会社(本社:東京都、代表取締役社長:渡辺徹)は1979年10月に設立。京都、大阪支店のほか14のサービスセンターを置き、日本の顧客へのサポート体制を整えています。

このリリースに関する詳しいお問い合わせは下記へ
アプライド マテリアルズ ジャパン株式会社
社長室: 大橋 百合 (Tel: 03-6812-6801)
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