應用材料公司推出先進化學氣相沉積薄膜

• 平板電腦和電視採用金屬氧化物技術後，效能更優
• 全新的 AKT-電漿增强化學氣相沉積薄膜能以符合成本效益的方式，迅速將金屬氧化物背板導入市場

應用材料公司宣佈推出全新的電漿增强化學氣相沉積薄膜技術，這項技術可應用在新一代的平板電腦和電視上，製造出效能更佳、高解析度的顯示器。這些先進絕緣薄膜是以應用材料公司的 AKT-電漿增强化學氣相沉積平台為基礎，能夠發揮金屬氧化物電晶體的效能，製造出廣受消費大眾喜愛的體積更小、像素切換速度更快的高解析度螢幕。

應用材料公司新推出的電漿增强化學氣相沉積薄膜，能提供金屬氧化物電晶體所需的介電層介面，將氫雜質減到最少，以改善電晶體的穩定性及傳送最佳化的螢幕效能。AKT-電漿增强化學氣相沉積系統可將二氧化矽 (SiO2) 薄膜，精準均勻地沉積在面積最大達 9 平方公尺的玻璃板上，這是提高生產良率及降低製造成本所需的關鍵能力。

應用材料公司集團副總裁暨 AKT 顯示器事業群總經理湯姆．艾德曼 (Tom Edman) 表示：「顯示器製造廠無不積極投資金屬氧化物電晶體技術能力，而我們推出的先進電漿增强化學氣相沉積薄膜，即能克服這些複雜介電質薄膜在均勻度與穩定度的挑戰，一舉清除推動這項重要新技術時的最大障礙。透過擴充應用材料公司世界級 AKT-電漿增强化學氣相沉積平台的功能，金屬氧化物技術便能以快速且符合成本效益的方式進入市場。客戶在使用我們的系統後都得到了優異的成果，各大顯示器製造商對升級和購置新系統的強烈需求持續升溫。」
 
除了新推出電漿增强化學氣相沉積薄膜以外，應用材料公司目前也正在開發先進物理氣相沉積解決方案，其中包括用於金屬氧化物製造的銦鎵鋅氧化物沉積。透過其最新的旋轉陰極陣列技術，應用材料公司展現出擁有高均勻度、同質化且低瑕疵率的主動層沉積技術，比目前現有的物理氣相沉積解決方案產量更高，材料耗損成本也更低。

應用材料公司將於3月20至22日在上海舉行的2012中國國際平面顯示器件、設備材料及配套件展覽會 (FPD China 2012)中展示金屬氧化物液晶薄膜顯示器製造技術。有關應用材料公司在展覽會中的展示活動，請造訪：www.appliedmaterials.com/events/FPD-china-2012。

應用材料公司是全球前五百大公司之一，專事製造先進的半導體、平面顯示、太陽光電的各項創新性設備、服務及軟體產品。應用材料公司的創新技術可協助諸如智慧型手機、平面電視及太陽能電池更具成本效益，更方便使用。應用材料公司運用今日的創新，成就企業明日的商業應用。查詢應用材料相關訊息，請至 http://www.appliedmaterials.com。  ###