應用材料公司以嶄新的光罩蝕刻系統解決極紫外光微影的重大障礙

• 全新光罩蝕刻技術能解決在16奈米及以下獨特製造所面臨的挑戰
• 新系統能解決極紫外光 圖形轉印的兩大主要需求：圖形精確度與缺陷效能
• 在領導光罩廠商已安裝多套系統，有利於推動極紫外光技術向前轉捩點

應用材料公司推出全新的 Applied Centura® Tetra™ 極紫外光(EUV)先進標線光罩蝕刻系統，促使光罩技術更加精進。這套全新的 Tetra 極紫外光系統能以奈米級精確度與一流的缺陷效能，進行蝕刻新的深紫外光光罩，一舉克服過去極難解決的重大挑戰，掃除使用極紫外光微影的主要障礙，協助製造商製造許多新一代的高效能半導體晶片。

應用材料公司副總裁暨光罩與矽穿孔蝕刻產品處總經理雅傑‧庫瑪(Ajay Kumar )表示：「由於我們全新的 Tetra極紫外光系統擴展了新技術能力，現今絕大多數的先進光罩製造商都使用應用材料公司的業界標準 Tetra 蝕刻平台。應用材料公司會持續投資我們客戶所重視、並能開啟下一世代的設計技術。我們已出貨多套系統，目前也與幾乎所有的領導光罩製造商密切合作，協助半導體產業採用這項顯著的技術轉變。」

極紫外光光罩與傳統光罩基本上的不同之處，是傳統光罩會選擇性發出 193nm 波長光線，以將電路圖形投射到晶圓上。在極紫外光所用的 13.5nm 波長照射下，所有光罩材料都是不透光的，因此包含複雜多層鏡面的光罩會轉而將電路圖形反射到晶圓上。Tetra 極紫外光系統旨在蝕刻新材料及對堆疊層進行繁複製程，讓這種反射模式運作時，達到高度微影良率所需的圖形精確度、表面處理和缺陷規格等嚴峻需求。

應用材料公司為了最佳化客戶在光罩與微影作業上的生產力與產量，推出了完整的解決方案，Tetra 極紫外光系統正是產品組合的一部分。本系統由應用材料全球客戶支援服務所支援，這是業界最全面性的服務與支援網路，能大幅增加光罩蝕刻機具最關鍵的系統正常運轉時間。有關應用材料公司微影解決方案的詳細資訊，請造訪 www.appliedmaterials.com/advanced-litho。

應用材料公司是全球前五百大公司之一，專事製造先進的半導體、平面顯示、太陽光電的各項創新性設備、服務及軟體產品。應用材料公司的創新技術可協助諸如智慧型手機、平面電視及太陽能電池更具成本效益，更方便使用。應用材料公司運用今日的創新，成就企業明日的商業應用。查詢應用材料相關訊息，請至 http://www.appliedmaterials.com。  ###