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Productsort descending 技术 应用 平台
Centris® AdvantEdge™ Mesa™ 刻蚀系统 刻蚀 互连线, 图形化, 存储, 晶体管 Centris™
Centura® AdvantEdge™ Mesa™ 刻蚀 刻蚀 互连线, 图形化, 存储, 晶体管 Centura®
Centura® Integrated Gate Stack ALD 存储, 晶体管 Centura®
Centura® RP Epi 外延生长 晶体管 Centura®
Endura® ALPS® PVD (ALPS Co & Ni) PVD(物理气相沉积) 晶体管 Endura®
Endura® Avenir™ RF PVD PVD(物理气相沉积) 晶体管 Endura®
Endura® Versa™ XLR W PVD PVD(物理气相沉积) 存储, 晶体管 Endura®
Olympia™ ALD ALD 晶体管 Olympia™
Producer® Celera™ PECVD CVD(化学气相沉积) 晶体管 Producer®
Producer® Eterna™ FCVD™ CVD(化学气相沉积) 存储, 晶体管 Producer®
Reflexion® LK CMP CMP 互连线, 晶体管, 晶圆级封装 Reflexion®
Reflexion® LK Prime™ CMP CMP 互连线, 存储, 晶体管, 晶圆级封装 Reflexion®
Vantage® Astra™ DSA 快速热处理(RTP) 存储, 晶体管 Vantage®
Vantage® Radiance®Plus RTP 快速热处理(RTP) 存储, 晶体管 Vantage®
Vantage® RadOx™ RTP 快速热处理(RTP) 存储, 晶体管 Vantage®
Vantage® Vulcan™ RTP 快速热处理(RTP) 存储, 晶体管 Vantage®
Varian VIISta® Trident 离子注入 晶体管 VIISta®
VIISta® 3000XP 离子注入 晶体管 VIISta®
VIISta® 900 3D 离子注入 晶体管 VIISta®
VIISta® 900XP 离子注入 晶体管 VIISta®
VIISta®HCP 离子注入 晶体管 VIISta®
维利安 VIISta® PLAD 离子注入 晶体管 VIISta®