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CVD

CVD(化学气相沉积)工艺有着广泛的应用。从晶体管结构图形化薄膜到电路导电金属层之间的绝缘材料,CVD 工艺的身影无所不在。典型应用包括浅沟槽隔离层、金属前电介质层、金属层间电介质层和钝化保护层。该工艺也在应变工程中发挥重要作用,采用压缩或拉伸应力薄膜来改善导电性,从而提升晶体管的性能。