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Producer® CVD 200mm

为满足“超越摩尔定律”市场(包括 MEMS、功率器件和封装)的制造要求,对更多 200mm 先进化学气相沉积技术的需求也有所增加。更厚的薄膜 (≥20µm)、更低的温度(180° 至 350°C)、更高的共形性以及诸如低温 PECVD 硅锗 (SiGe) 和非晶硅 (a-Si) 等新材料,都是开发用于满足此类市场需求的新 CVD 技术。

应用材料公司的 Producer 系统全球销量愈 3,000 套,是业内最具成本效益的晶圆加工平台。该平台采用创新的 Twin Chamber 架构,最多可同时处理六个晶圆,达到极佳的生产效率。

Producer 系统支持传统的 PECVD(TEOS 和基于硅烷的氧化物和氮化物)和负压 CVD 薄膜沉积,以及一些先进的工艺,包括低 k、应变工程、光刻薄膜、热薄膜、高温 PECVD 应用、硅锗和非晶硅。

借助陶瓷加热器、腔室组件和用于腔室清洁的远程等离子源,应用材料公司的 Producer 使 CVD 薄膜的缺陷率达到最低。平台具有可扩展性,使客户能够将 Producer 工具集用于多种类型设备和工艺节点。