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Centura HDP CVD 200mm

应用材料公司的 Centura Ultima HDP-CVD(高密度等离子化学气相沉积)系统在全球的安装量超过了 1,000 套,是业界领先的多代主力机型,该系统可以为 200mm 以下的应用提供久经考验的无孔洞间隙填充解决方案。

应用材料公司获得过专利的 Ultima HDP-CVD 反应器设计和工艺技术可以为多种应用沉积无掺杂 (USG) 和掺杂(PSG 和 FSG)薄膜,这些应用包括浅沟槽隔离层 (STI)、金属前电介质层 (PMD)、层间电介质层 (ILD)、金属层间电介质层 (IMD) 以及钝化保护层。