의 ATON PVD 기술

Applied Materials의 ATON은 실리콘 웨이퍼 기판 위에 무실란 실리콘 질산물 반사방지/표면보호막(silane-free silicon nitride anti-reflective/passivation layer)을 증착하는 혁신적 PVD 시스템입니다. 최상의 막 균일도와 높은 작업량을 자랑하는 ATON 을 이용해 생산단가는 낮추고 성과는 높일 수 있습니다.다양한 크기의 기판을 수용할 수 있는 ATON의 모듈 디자인과 능력 덕분에 여러 종류의 제품 생산이 가능해졌습니다.

다양한 목표 설정이 가능한 새로운 디자인으로 목표 범위와 세척 일정을 10일에서 20일 이상까지 조정할 수 있으며, 시스템 가동 시간은 93%까지 증가합니다.새로운 이 디자인은 단일 목표 기술과 비교해 수명은 늘이고 전체 운영 비용은 줄여 시스템 이용률을 75%까지 3배 이상 증가시켰습니다.

각 ATON 시스템은 목표 수명 주기 내내 세계 수준급의 막 균일도(+/- 2.5%)를 유지하며 100MW 이상을 생산할 수 있습니다. 굴절률(RI)과 수소 함량은 개별적으로 제어하면서 일일 생산별로 전지 효율을 쉽게 관리할 수 있습니다. 전반적으로 볼 때, ATON 기술을 이용할 경우 c-Si 생산업체는 화학 증착(CVD) 시와 같은 효율의 전지를 생산하면서 생산단가를 40% 절감할 수 있습니다.