AKT(의 자회사)의 저온 폴리실리콘 LCD용 PECVD 시스템

AKT의 저온 폴리실리콘 LCD용 PECVD는 적은 전력을 소비하면서 밝고, 높은 해상도를 제공하는 TFT-LCD를 생산하기 위한 기술로서 섭씨 430도에서 업계 최고의 품질을 자랑하는 수소 제어 폴리실리콘 전구체 막을 생성하는 다단계(SiN/SiO2/a-Si) 단일 챔버 증착 공정이 특징입니다.

챔버에서 별도로 가열 후 증착하여 시스템 작업량을 높이면서, 증착되는 실리콘 막의 수소 함량은 크게 줄이는 방식입니다. 폴리실리콘 전구체 막에 함유된 수소량이 감소된 덕분에 별도의 시스템에서 이루어지는 ELA(excimer laser anneal)공정이나 기타 활성화 공정을 거쳐 막이 폴리실리콘으로 결정화되는 속도가 빨라졌습니다.

현재 다음과 같은 기판 크기에 따라 3개의 플랫폼에서 저온 폴리실리콘화가 이루어지고 있습니다.최대 370mm x 470mm 용 AKT-1600 PX PECVD, 최대 620mm x 750mm 용 AKT-4300 PX PECVD, 최대 730mm x 920mm 용 AKT-5500 PX PECVD