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고속 열처리

고속 열처리는 반도체 소자 제조 중에 원하는 특성(예를 들어 전도성)을 향상시키기 위해 주입된 도펀트를 활성화하거나 재료의 상태(또는 상)를 변경하기 위한 목적으로 반복적으로 사용됩니다.

소킹, 스파이크 또는 밀리초 어닐링과 건식 고속 산화는 여러 가지 응용 분야에 적용됩니다. 어떤 기술을 선택할 것인지는 제조 공정의 특정 시점에서 특정 온도/시간 노출을 견딜 수 있는 소자의 허용 한도를 포함해 여러 가지 요인에 따라 결정됩니다. 어플라이드 머티어리얼즈의 레이저 및 램프 기반 시스템 제품군에는 모든 종류의 RTP 기술이 적용되어 패턴 로딩, 열처리량 감소, 누설 전류, 계면 품질 최적화 같은 첨단 나노급의 당면 과제에 대한 폭넓은 해결책을 제공합니다.