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포토마스크

포토마스크는 수십억 개의 소자로 구성된 칩 디자인을 가능케 함으로서 트랜지스터 미세화 기술의 경이적 발전을 뒷받침하고 있습니다. 193nm 광학 리소그래피를 연장 적용하면서 트랜지스터 복잡도를 높이려면 7nm 노드에서 하나의 칩 디자인당 80장 이상의 포토마스크가 필요합니다.