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에피택시

에피택시는 반도체 제조에서 반도체 소자의 기반이 되는 완벽 결정층을 만들거나 전기 전도성 향상으로 위해 하부층의 기계적 특성을 변화시키는 데 사용됩니다.


이 중 두 번째 응용 분야를 총칭해서 신축 변형 가공이라고 부릅니다. 이 공정에서는 트랜지스터 게이트 아래에 있는 채널 재료의 격자에 압축 또는 인장 응력을 가합니다. 업계를 선도하는 어플라이드의 독자적 에피택시 기술은 도펀트 원자를 정확히 배치하고 결함 수준을 크게 낮춰 상당히 균일한 응력 필름을 생성합니다.