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Raider® Mini ECD

Raider M은 고성능 자동화 단일 웨이퍼 ECD 시스템입니다. 이 시스템은 개별 공정 챔버와 결합된 완전 자동화 정밀 웨이퍼 핸들링 시스템을 특징으로 하며 자동 화학물질 관리 시스템과 함께 사용할 수 있습니다. Raider M 플랫폼으로 개발한 공정과 레시피는 대량 생산용 Raider GT ECD 시스템으로 바로 전환할 수 있기 때문에 연구 개발 단계에서 완전 생산 단계로 유연하고 신속하게 넘어갈 수 있습니다.

  • 첨단 금속 증착 챔버
  • 하나 또는 두 개의 공정 챔버
  • 150, 200 또는 300mm 웨이퍼 크기
  • SEMI S2/S8 지침 준수
  • 국소 이온화 환경
  • 개방형 카세트, SMIF, FOUP 장착 스테이션
  • 작은 설치면적(<2m²)
  • 유연한 설계
  • 발전된 처리 능력

응용 분야

  • 전기 분해 금속 증착(Cu, Au, Ni, 솔더 합금 등)
  • 무연 도금 개발
  • 3D 칩 스태킹 연구 개발