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Endura® HAR Cobalt PVD

첨단 소자에서는 DRAM 구조로부터의 데이터 전송 속도가 시스템 성능을 제한하는 요소가 됩니다. 이러한 데이터 전송의 속도를 높이려면 주변부 게이트컨택이 더 빨라져야 합니다. Endura HAR Cobalt PVD 시스템은 주변부 컨택의 저항을 낮추어 더 낮은 전압에서 더 높은 구동 전류를 구현합니다.

코발트 실리사이드가 고종횡비 주변부 컨택에 대해 최저 수준의 저항을 구현해서 더 낮은 전압에서 더 높은 구동 전류를 얻을 수 있고 CVD 티타늄 실리사이드 기술보다 더 뛰어난 성능을 보여줍니다.