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Applied® Sigmameltec® SFD Mask Develop Series

엄격히 관리된 코팅, 노광, 베이크 공정을 거친 포토마스크의 자체 CD 균일도를 유지하려면 노광된 패턴을 정확히 현상하는 것이 중요합니다. 이를 위해서는 현상액을 마스크 표면에 동시적이고 균일하게 디스펜스해야 합니다. 현상액 부족을 막고 전체 마스크 형상 사이즈에 대해 최적의 CD 선형성을 얻기 위해서는 유량이 충분해야 합니다. 케미컬 공정을 분리하고 마스크 표면으로 액적이 튀는 것을 방지하여 마스크 결함 발생을 막아야 합니다.

Sigmameltec의 SFD 시스템 디자인은 현상 및 최종 세척 단계를 분리하는 2개의 챔버를 기반으로 하며 현상 후 세척 단계와 최종 세척 단계 사이에 건조되는 것을 방지하기 위해 챔버 사이로 마스크를 이동하도록 되어 있습니다. 현상액 온도와 유량을 정확히 제어하여 마스크간 CD 평균 변동을 최소화합니다. 폭넓은 챔버와 함께 매끄러운 벽면과 이중 높이 존 공정이 마스크에 이물질이 튀는 것을 막아주며, 챔버 및 스테이지 세척은 결함 없는 마스크 공정에 요구되는 청결성을 한결같이 유지해 줍니다.

주요 특징 및 장점

  • 현상 및 최종 세척 챔버의 분리로 교차 오염 및 결함을 방지하도록 케미컬이 분리됨
  • 습식 챔버의 이중 높이 존과 매끄러운 챔버 디자인이 튀김을 방지
  • 폭넓은 선형 슬롯 디자인이 균일한 현상액 유동을 만들어 최적의 CD 균일도 및 평균 CD 재현성 확보 가능
  • 고유량 및 피드백 루프 제어가 로딩 효과를 최소화하고 CD 선형성을 최적화
  • 별도의 세척 노즐로 현상 공정을 신속히 냉각할 수 있어 최상의 CD 제어 가능
  • 습식 로봇이 퍼들로 마스크를 이동하여 이른 건조를 막고 마스크 패턴을 보호
  • 백사이드 노즐로 전체 마스크 동시 세척
  • 작업자 없이, 자동화된 챔버와 스테이지 세척으로 청결한 환경 유지