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Aera4™ 마스크 검사

어플라이드 Aera4 마스크 검사 시스템은 트루 에어리얼 이미징과 최첨단 고해상도 이미징을 차별화된 방식으로 결합한 4세대 193nm 기반 검사 장비입니다.

새로운 리소그래피급 렌즈가 탑재된 Aera4 시스템은 표준 고행사도 애플리케이션 및 에어리얼 검사 모두에서 향상된 신호 대 잡음비를 보여 1x nm 기술 노드와 EUV 마스크 초기 생산 검사에서 가장 선호되는 장비입니다. 이 시스템은 첨단 마스크에 대한 오 경보율을 매우 낮은 수준으로 유지하면서 더블/쿼드러플 패터닝 웨이퍼 리소그래피에 요구되는 고도의 정밀 마스크 검사를 수행합니다.

스캐너 에뮬레이션을 위해 설계된 Aera4 시스템은 인버스 리소그래피와 같은 강력한 광학근접보정(OPC) 기능 등이 탑재된 첨단 마스크에 대해 다른 고해상도 검사 시스템에 비해 탁월한 최초 검사 성공률을 구현합니다. 인쇄 또는 비인쇄 형태의 고유한 자동 결함 분류 기능을 결합한 이 시스템은 마스크 제조업체들이 ArF 기술을 차세대 노드로 확대할 수 있도록 합니다.

제조 공장에서 Aera4 시스템은 마스크 검사를 초기 연무 탐지로부터 완전한 193nm 노출 저하 모니터링까지 확대합니다. 또한, IntenCD™는 검사와 동시에 풀마스크 임계 치수 균일도 매핑을 가능하게 합니다. 이와 같은 기능을 통해 이 시스템은 마스크 수명을 높여 마스크 관련 비용을 절감해줍니다.