Applied Solion Ion Implant

イオン注入装置 Applied Solionは、生産現場で多数の実績を持つプラットフォーム技術を採用し、結晶シリコン太陽電池 の製造における高精度・高品位プロセスパフォーマンス、高生産性、高柔軟性の面で新たな標準を確立しています。

Applied Solionは、従来の熱拡散ドーピングに対し、生産コスト低減とセル変換効率向上を同時に実現します。これは、イオン注入プロセスの持つ独自の優位性メカニズムにより、変換効率の高いpn接合 が形成されることに基づきます。即ち、Solionシステムでは、高いドーピング精度とプロセス制御性が実現されるため、接合品質が向上することによりセル変換効率が向上し、また変換効率のばらつきも低減できます。

Applied Solionは、業界標準であるVarian VIIStaのリボンビーム 方式を採用し、優れたセル性能と高い歩留まりを達成します。独自のPrecision Patterned Implant（PPI）技術によりプロセスフローを簡素化し、より高い変換効率を持つ選択エミッタセル製造を可能にする極めて対費用効果の高い製造ソリューションを実現します。さらに、変換効率が20%超の高度なセル構造を製造する技術ロードマップに対しても、Applied Solionは持続的なソリューションを提供します。