TFT-LCD用のAKT PECVDシステム

AKTのプラズマCVD装置は、LCDディスプレイ用の大面積のガラス基板上に絶縁膜を成膜する装置です。アプライド マテリアルズのプラズマCVD装置は、日本、韓国、台湾、および中国の、ほぼすべての主要 TFT-LCD メーカーで採用されています。

アプライド マテリアルズの プラズマCVD装置は、アモルファスシリコン(a-Si)及び酸化物半導体バックプレーン技術のどちらにも対応し、ドープおよびアンドープのアモルファスシリコン膜（a-Si）、酸化膜、酸窒化膜（SiON）、窒化膜、それらの連続 積層膜など、さまざまな用途に対応するプロセスを提供しています。

アプライドの先進的なプラズマＣＶＤ技術により、次世代の超高精細ディスプレイを可能にする酸化物半導体トランジスタ技術を迅速に低コストで市場に提供することができます。アプライドのプラズマＣＶＤによる酸化膜は、酸化物半導体の絶縁膜として、水素不純物を最低限に抑え、トランジスタの安定性を改善し、すぐれたディスプレイ性能を可能にします。

独自のプロセスチャンバ技術により、AKTのプラズマＣＶＤ装置は、第2世代から第10世代まで、ディスプレイ産業で使用されているあらゆるサイズのガラス基板において、優れた膜均一性と電気特性を提供します。