skip to main content

VIISta®

1998年にVarian Semiconductor Equipment によって市場投入されたVIIStaプラットフォームは、注入製品の全ラインをサポートする、業界初の共有プラットフォームです。同プラットフォームは、4つの異なる製品(高電流、中電流、高エネルギー、プラズマドーピング)を搭載するようにデザインされ、共有性を最大化しています。