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高速熱処理

高速熱処理は、半導体装置の製造過程において、注入されたドーパントのアクティベートや、材料の必要特性 (例えば、伝導率) を向上させるための状態 (またはフェーズ) の変更などの目的で、繰り返し使用されます。

さまざまなアプリケーションにおいて、ソークアニール、スパイクアニール、またはミリ秒アニールや、迅速なドライ酸化などの処理を行います。テクノロジーの選択は、製造工程における特定のポイントにおいて、一定の温度/時間にさらされた際のデバイスの耐性など、いくつかの要素に依存します。アプライド マテリアルズのレーザーおよびランプベースのシステム製品群は、RTPテクノロジーのフルラインナップを取り揃え、パターンローディング、サーマルバジェットの削減、リーク電流、インターフェース品質の最適化など、先進ノードの課題に幅広いソリューションを提供します。