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フォトマスク

フォトマスクは、数十億のデバイスを有するチップ設計を可能にする、トランジスタのスケーリングにおける著しい進歩をサポートしています。複雑さを増すトランジスタと193nm光学リソグラフィーの拡張により、7nmノードのチップ設計では80枚以上のフォトマスクが必要となります。