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エピタキシー

エピタキシー は、半導体製造において、半導体デバイスを作り込むのに完璧な結晶基板層の生成、もしくは電導率の改善を目的に下層の機械的属性を変更するために使用されます。


後者のアプリケーションは総じて歪みエンジニアリングと呼ばれており、トランジスタゲートの下のチャネル部分の格子構造に圧縮性または引っ張り性の歪みを与えます。アプライド マテリアルズの市場をリードする、独自のエピテクノロジーは、ドーパント原子の精確な配置と極めて低い欠陥レベルで均一性の高い歪み層を生成します。