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Raider® Mini ECD

Raider Mは自動化された高性能枚葉式ウェーハECDシステムです。同システムは、個々のプロセスチャンバを備えた精密な全自動ウェーハハンドリングシステムを搭載し、自動薬液管理システムとの互換性も有しています。Raider Mプラットフォーム用に開発したプロセスとレシピは直接、大量生産用Raider GT ECDシステムに移植可能で、研究開発から製造へと迅速かつ円滑に移行できます。

  • 先進のメタル成膜チャンバ
  • 1基もしくは2基のプロセスチャンバ
  • ウェーハサイズ150mm、200mm、300mm
  • SEMI S2/S8ガイドライン準拠
  • イオン化でミニエンバイロメント
  • オープンカセット、SMIF、FOUPロードステーション
  • 小さい占有面積 (2m²未満)
  • 柔軟なデザイン
  • 高度なプロセス

アプリケーション

  • 電解メタル成膜 (Cu、Au、Ni、はんだ合金など)
  • 鉛フリーめっきの開発
  • 3Dチップスタックの研究開発