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Producer® Celera™ PECVD

The Applied Producer Celera PECVD system deposits tunable compressive and tensile high-stress silicon nitride films for strain engineering applications at 45nm and below.

本装置は、最大1.7GPaの引張応力を実現すると同時に、低サーマルバジェットの要件も満たす、統合された引張応力窒化膜の成膜とUV硬化を提供します。 また、同じチャンバで、最大3.5GPaの圧縮応力を持つ膜を成膜できます。 このプロセスでは、生産で実証されたシランCVD技術を使用して、卓越した被覆率(~70%)の成膜を実現すると同時に、優れたSiN(シリコン窒化)膜のエッチストップ特性とパターンローディング効果を維持します。

Applied Celeraの成膜とUV硬化プロセスは、製造現場で実証された高スループットのProducerプラットフォームに統合されています。また、柔軟性に優れたTwin Chamber®構成と、お客様がProducerツールセットを複数のプロセスノードで利用することを可能にするプラットフォーム拡張性も有しています。