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Centura® Ultima HDP-CVD®

Ultima X™ を最先端のCentura 300mmメインフレームに組み込むことにより、占有面積はそのままで、 サービス性およびスループットが向上します。

世界で1,000台以上のUltimaシステムの出荷実績が示す通り、Applied Centura Ultima X HDP‑CVD (高密度プラズマ化学気相成長)は、数世代にわたって実用性が証明された、業界をリードするCVD装置です。先進のメモリおよびロジックアプリケーションにおいて、ボイドフリーのギャップフィルソリューションを提供します。

アプライド マテリアルズの特許取得済みUltima X HDP-CVDのリアクター設計とプロセス技術は、浅溝型素子分離 (STI)、プリメタル絶縁膜(PMD)、層間絶縁膜(ILD)、 金属配線層間絶縁膜 (IMD)、パッシベーションなど、広範なアプリケーションにおいて、非ドープ (USG)膜およびドープ (PSGとFSG) 膜の双方を成長させます。