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Applied® Sigmameltec™ SFBマスクベークシリーズ

フォトマスク製造向けに化学的に増幅されたレジストの使用には、パターン露光によって開始された化学反応を完結する、ポスト露光ベーク(PEB)ステップの厳密な制御が要求されます。最終的なパターン形状はベーク温度および時間の影響を受けます。露光のCD均一性を忠実にマスクへ転写するためには、ベーク条件において均一性かつ再現性を見極めなければなりません。ベーク段階の温度管理はCDに強く影響するため、昇温速度と降温速度とが一致していることが重要となります。

Sigmameltec’s SFBシステムは、マスク周辺の複数加熱ゾーンと微量なガス流量調整により温度を均一にするベークステージを特長に持ちます。その結果、温度の安定性のみならず、昇温速度一貫性においても、マスク上のあらゆるポイントで再現性を確保することができます。

主な機能:

  • スループット向上、または2つの異なる設定温度での運用を可能にするデュアルベークモジュール
  • 高い温度均一性を実現するマルチゾーン温度制御を備えたベーク環境
  • マスク全体の一貫した温度管理を可能にする急速昇温と定常温度制御
  • ベーク温度プロファイルの異なる微調を可能とするチャンバ内N2マルチゾーン供給
  • 急速冷却制御のためのペルチェ冷却プレート
  • 遅延なくベーク後冷却するためのベーク/冷却モジュールの急速切り替え
  • ポスト露光遅延の再現性を最大限に高めるインラインマスク描画装置(オプション)