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Applied® Sigmameltec™ MRCマスク洗浄シリーズ

Sigmameltec MRCマスク洗浄シリーズは、193iおよびEUVLマスク要求に合わせたレジスト除去および洗浄実現のために、プラズマ洗浄、真空ベイクチャンバなど、先進のフォトマスクプロセスのために最適化したモジュールにより構成されます。

193iおよびEUVリソグラフィーを使用したフォトマスクの洗浄方法は、繊細なマスク材料とマスクが使用される環境によって決まります。マスク洗浄プロセスは、刺激の強い化学処理から、極小パーティクルの除去や洗浄度の高いマスク表面の実現のための刺激の弱い高周波メガソニック(物理処理)までを含みます。

SigmameltecのMRCシステムは、レジストや残留有機物を優しくかつ効果的に除去するプラズマチャンバを含む装置一式をマスクメーカに提供します。ウェットプロセスロボットでマスクが受け渡される2基の洗浄チャンバは、化学洗浄ステップと最終洗浄ステップで構成されており、後者は最終性能を作用する重要なステップです。オゾン水、CO2水、TMAH水溶液、硫酸過水混合液、SC-1などの薬液が利用可能です。

主な機能:

  • EUVLマスクのカーボン汚染を含む有機物を効果的かつダメージを与えずに除去するダウンストリームプラズマ
  • 洗浄性能最適化のためのウェット洗浄チャンバ2基によるプロセス機能分離
  • マスクの微細パターンを損なうことなく、極小のパーティクルを効果的に除去する「音波振動ブラシ」を備えた高周波メガソニックヘッド
  • 効果的な有機物除去のためのオゾン水の均一フローを達成するリニアスロットノズル(LSN)と UV照射の複合処理
  • 強固なパーティクルを除去する薬液をミクロサイズの水滴で噴射する速度インパクトノズル(VIノズル)
  • 表面準備とイオン除去のための真空ベークチャンバ
  • 反転することなくマスク全体を洗浄して高スループットを実現する裏面メガソニック
  • 193iマスクのヘイズ生成を防ぐ硫酸鉛フリー、かつ低アンモニアのプロセス