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Applied PECVD 5.7

  • 高速成膜速度(微結晶膜で500Å/min以上)による優れた生産性
  • 均一性の高い膜厚によるセルの変換効率向上
  • 実稼動で90%以上のアップタイムと優れた信頼性が実証されたプラットフォーム

Applied PECVD 5.7は、最大5.7㎡サイズのガラス基板上に薄膜シリコンソーラーパネルの活性層を成膜します(世界最大のモジュールサイズ)。Applied PECVD 5.7には、全世界で800台以上の納入実績を持つアプライド マテリアルズのTFT-LCDディスプレイの製造装置で培われた技術が採用されています。

Applied PECVD 5.7は、独立チャンバ7基を中央搬送モジュールの周囲に配置した枚葉式のクラスターツールです。専用のアモルファス成膜チャンバと微結晶成膜チャンバにより、多接合セルの光吸収層間で問題となる汚染リスクを回避することができます。