應用材料公司發表第一款全自主式缺陷檢測掃描電子顯微鏡 應用於最先進的晶片製造

• SEMVision G5為半導體製造帶來突破性的「全自動」功能
• 以無與倫比的1奈米畫素提供優異的影像品質
• 為關鍵的22奈米先進製程提供最高的缺陷檢測率，大幅提升良率

應用材料公司推出 Applied SEMVision G5 系統，進一步推升在缺陷檢測掃描電子顯微鏡(Scanning Electronic Microscope，簡稱SEM)技術的領導地位，這是第一款可供晶片製造商用於無人生產環境的缺陷檢測工具，能拍攝並分析20奈米影響良率的缺陷。SEMVision G5獨特的功能可識別並拍攝1奈米畫素的缺陷，協助邏輯與記憶體客戶改善製程，比過去更快且更正確地找出造成缺陷的根本原因。

SEMVision G5系統配備最先進的1奈米畫素、無與倫比的影像品質及強大的分析引擎，是唯一的缺陷檢測掃描電子顯微鏡，能夠在極其困難的線路層上，一邊進行識別、分析及發現缺陷，卻同時能提高產出。另外，這套系統在區別真假警訊或真假缺陷方面樹立了全新的標竿，在測試中，這套系統遠比專業的操作員更為準確而快速，能讓客戶更快更常檢查更多晶圓，學習曲線更加速、提升良率也更迅速。

突破性的SEMVision G5為開放架構平台，具有已定義之檢測策略程式庫，可動態結合接收自晶圓檢查系統的資料。此系統可自動建立新的檢測程式，這是超越其他競爭對手工具的主要優勢，因為其他廠商的工具需要以耗時的手動設定程式，針對每一種晶片類型分別建立檢測方式。這項功能對於晶圓代工客戶至為關鍵，因為他們必須在每年製造的數千種新晶片設計中達到良好的產能。

應用材料公司企業副總裁暨製程診斷與控制事業處總經理依泰‧羅森費德 (Itai Rosenfeld)表示：「SEMVision G5系統優異的影像功能及全自動的作業方式，提升客戶競爭優勢，協助他們縮短產品上市的時間，逢此當今快速發展的電子產業中能滿足縮短產品週期的需求，至為重要。我們已將多套SEMVision G5系統出貨給客戶，多家客戶也再次採購。客戶快速採用這套產品，由此可見產品價值及我們在這項晶片製造關鍵技術持續三十年的領導地位。」

應用材料公司是全球前五百大公司之一，專事製造先進的半導體、平面顯示、太陽光電的各項創新性設備、服務及軟體產品。應用材料公司的創新技術可協助諸如智慧型手機、平面電視及太陽能電池更具成本效益，更方便使用。應用材料公司運用今日的創新，成就企業明日的商業應用。查詢應用材料相關訊息，請至 http://www.appliedmaterials.com。  ###